教您如何分清钯金和铂金
2020-12-16 07:20:53 4752次浏览
钯金作为稀有白色贵金属,其共同的气质备受全球重视,它承袭不断演化的装修风格,正在成为新钯金生代的新宠。
铂金符号Pt,银灰白色,比重21.35,熔点1769℃,摩氏硬度4-4.5度,化学性质安稳。
铂金(Platinum,简称Pt),是一种天然的白色贵金属。根据国家贵金属首饰标准,只要铂金才可以称为白金。另外,只要含铂量在850‰以上的首饰才能带有铂金的专有标志——铂(铂金,白金)或Pt。并在标志后带有表示铂金纯度(含铂量)的千分数,如铂(铂金,白金)950,Pt950。铂金首饰一般带有Pt850、Pt900、Pt950、Pt990或Pt999(千足铂)的纯度标志。
白金一般人们白话中的白金指的是铂金,但不良商家歹意混淆概念,许多白色金属都成为白金。的区别办法就是看首饰有没有Pt的标志。
由铂族元素矿物熔炼的金属有钯金、铑金、铱金、铂金等。钯金为铂金族一员,钯金(Palladium,简称Pd),是另一种白色金属,密度大约是铂金的一半,和银十分相似。超越80%的钯是用于工业用途,而钯用于首饰中目前主要是作为合金。但与铂金有着区别:一是钯金成分印鉴为“pd”,而铂金的成分印鉴为“pt”;二是钯金的价格低于铂金;三是钯金比铂金的比重轻。
许多顾客分不清铂金和钯金,铂金和钯金在色彩上很相似,但是在品质和性质方面去有大相径庭,市场上钯金的价格约为铂金价格的一半,所以顾客在购买铂金首饰时一定要注意。
钯金首饰是在铂金价格不断上涨的背景下应运而生的。前些年,同属一族的金属钯和铂,虽然色彩和外观都很接近,但命运却大不相同。铂金作为万众追捧的目标,其首饰制品价格一路看涨。而钯那时连金的名分都没获得,是地地道道的副角,主要充作其他金属首饰的组成成分,比如在18K金或者白银首饰外面镀一层钯。近年来,随着铂金将首饰消费门槛越抬越高,一些珠宝厂家致力研究钯金技术,推出了含量在900‰以上的纯钯金首饰。
钯金首饰上市日渐引起时髦人士的重视。这两类黄金饰品都是自然白色,光泽熠熠,赏心悦目,仔细察看都感觉不到二者的明显差别。前来批发钯金首饰的各地经销商络绎不绝。一位来自宁波的客人说,江浙一带顾客对钯金的需求在不断增长,他的生意越做越大了。业内人士介绍,深圳的钯金首饰零售量也在上升。钯金首饰时髦、新潮,是年轻人的新宠。
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在我们数十年的电镀历史中,我们对镀金工艺和去除镀层的工艺有广泛的了解。根据应用和生产年份的不同,电镀厚度的范围从几微英寸的金到几百英寸不等。大多数公司在购买镀金图钉时没有考虑这些因素,但是在确定真实价值时这些因素至关重要。在我们的工厂中,我
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微观结构:铟靶晶粒尺寸一般需维持在 10-50 微米区间,密度高于 7.31g/cm³,热导率保持在 81.8W/(m・K) 以上,这些技术参数直接决定了其在真空溅射过程中的沉积效率和薄膜质量。热等静压(HIP)工艺:在高温和高压环境下进行
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光伏产业:占比 15%,应用于薄膜太阳能电池的透明电极,如铜铟镓硒(CIGS)薄膜电池、光伏异质结电池(HJT)等,随着这些电池技术的产业化进程加速,对铟靶的需求也在不断增加。显示技术领域:广泛应用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板
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超高密度成型:超高密度成型工艺(≥99.5%)可使靶材具有更好的性能,提高在真空溅射过程中的稳定性和使用寿命。晶粒定向控制:晶粒定向控制技术能够控制铟靶的晶粒尺寸和方向,提升溅射薄膜的质量和性能,满足高端应用领域的需求。良好的机械和热学特性
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良好的机械和热学特性:硬度较高,在研磨、抛光过程中不易被划伤,保证了薄膜表面的平整性;同时能够承受较高的温度而不发生分解或结构破坏,在高温环境中的抗裂性和耐用性良好,确保了薄膜在溅射和高温条件下的稳定性。粉末冶金法:将铟氧化物和锡氧化物粉末
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半导体领域:占比 28%,用于晶圆制造的金属互联层与钝化层沉积,在第三代半导体器件制造中的渗透率持续攀升,如氮化镓功率器件就需要使用铟靶。超高密度成型:超高密度成型工艺(≥99.5%)可使靶材具有更好的性能,提高在真空溅射过程中的稳定性和使
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铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。显示面板制造:是铟靶的应用领域,约占总需求的 52%,主
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铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。热等静压(HIP)工艺:在高温和高压环境下进行烧结,能够
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半导体领域:占比 28%,用于晶圆制造的金属互联层与钝化层沉积,在第三代半导体器件制造中的渗透率持续攀升,如氮化镓功率器件就需要使用铟靶。粉末冶金法:将铟氧化物和锡氧化物粉末均匀混合,随后进行预烧结,以获得初步的靶材结构。预烧结步骤通常在相
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良好的导电性:ITO 薄膜的电阻率可达 10⁻⁴Ω・cm,具有较低的电阻和较高的载流子浓度,能够有效地传输电流,满足各种电子设备的导电需求。光伏技术领域:在太阳能电池中,ITO 薄膜作为前电极材料,具有高透明性,能够保证光线有效进入吸收层,
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粉末冶金法:将铟氧化物和锡氧化物粉末均匀混合,随后进行预烧结,以获得初步的靶材结构。预烧结步骤通常在相对低温下进行,目的是通过部分熔融促进粉末颗粒的结合,同时防止过早的晶粒长大。粉体粒径分布的控制是该方法中的关键一环。精铟是指纯度极高的金属
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微观结构:铟靶晶粒尺寸一般需维持在 10-50 微米区间,密度高于 7.31g/cm³,热导率保持在 81.8W/(m・K) 以上,这些技术参数直接决定了其在真空溅射过程中的沉积效率和薄膜质量。精铟的制备需经过多步精炼,核心工艺包括:原料预
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优异的光学性能:在可见光波段(380-780nm)内,ITO 薄膜的透光率通常能够达到 80% 以上,高透光率确保了其在显示器、太阳能电池等应用中的良好表现。光伏技术领域:在太阳能电池中,ITO 薄膜作为前电极材料,具有高透明性,能够保证光
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铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。优异的光学性能:在可见光波段(380-780nm)内,I
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铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。半导体领域:占比 28%,用于晶圆制造的金属互联层与钝化
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良好的机械和热学特性:硬度较高,在研磨、抛光过程中不易被划伤,保证了薄膜表面的平整性;同时能够承受较高的温度而不发生分解或结构破坏,在高温环境中的抗裂性和耐用性良好,确保了薄膜在溅射和高温条件下的稳定性。显示技术领域:广泛应用于 LCD、O
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主要成分:通常由 90% 的氧化铟(In₂O₃)和 10% 的氧化锡(SnO₂)组成,这一比例在实际应用中能实现透明性和导电性的理想平衡。外观特性:在靶材形态下,颜色通常为浅黄色至浅绿色,而制成薄膜后则具有透明性。良好的机械和热学特性:硬度
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铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。主要成分:通常由 90% 的氧化铟(In₂O₃)和 10
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优异的光学性能:在可见光波段(380-780nm)内,ITO 薄膜的透光率通常能够达到 80% 以上,高透光率确保了其在显示器、太阳能电池等应用中的良好表现。光伏技术领域:在太阳能电池中,ITO 薄膜作为前电极材料,具有高透明性,能够保证光
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微观结构:铟靶晶粒尺寸一般需维持在 10-50 微米区间,密度高于 7.31g/cm³,热导率保持在 81.8W/(m・K) 以上,这些技术参数直接决定了其在真空溅射过程中的沉积效率和薄膜质量。良好的机械和热学特性:硬度较高,在研磨、抛光过